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中国28nm光刻机预计2021年交付,这对电子产品格局有什么影响?

一直以来芯片都是制约我国先进制造业发展的一个重要瓶颈,因为目前我国自己没法生产出高端的芯片,而我国之所以没法自己生产高端芯片,因为我们没有高端的光刻机。

2019年之前我国自主研发的光刻机已经实现并量产的只有90纳米,45纳米以上的光刻机还处于实验或者研究阶段。

不过最近一段时间我国传出了好消息,由上海微电子自主研发的28纳米工艺沉浸式光刻机目前已经取得了突破,预计在2021年到2022年将交付第1台机器。

我国光刻机技术直接从90纳米工艺越过45纳米,直接跳到28纳米,这个进步确实是非常明显的。

不过28nm光刻机跟目前全球最顶 尖的7nmEUV光刻机仍然有很大的差距,基于7nmEUV光刻机,目前台积电已经开始量产5纳米的芯片了,所以即便我国研发出28纳米的光刻机,但短期之内想要解决7纳米以上的芯片难度仍然是非常大的,未来我国7纳米以上芯片仍然严重依赖进口。

但我国研发出的28纳米光刻机,我个人认为对电子产品市场会有一定的影响,只是影响不会太大。

我国作为全球芯片消费很大的国家之一,每年有大量的芯片都依赖进口,比如2019年一年我们进口的芯片就达到2万亿人民币以上,在这些芯片当中既包括高端的芯片,也包括了一些中低端芯片。

假如未来我国28纳米光刻机正式投产了,那么我国芯片产能将会大幅得到提升,而且能够自主生产的不仅仅是28纳米的芯片,还有可能包括更高工艺的芯片。

虽然28纳米光刻机跟目前ASML7纳米光科技仍然有很大的差距,但是28纳米的光刻机通过工艺上的改进,并通过多重曝光之后,是可以生产出比28纳米更高工艺的芯片的,配合工艺改进,28纳米的光刻机可以用来生产14纳米、12纳米甚至是7纳米的芯片。

假如未来基于28纳米光刻机能生产出10纳米以上的高端芯片,那么我国就可以减少对芯片的进口依赖,这样我国生产的一些电子产品成本就有可能出现下降。

毕竟对于各种电子产品来说,芯片的成本是比较高的,如果芯片的生产成本降低了,那么电子产品的整机价格也会跟着下降,这对于整个电子产品来说无疑会产生一定影响。

不过目前全球的电子产品朝着越来越高端化发展,电子产品所使用的芯片工艺越来越高,特别是对于手机这些更新换代比较快的电子产品来说,我国生产出的28纳米光刻机其实不会有太大的影响。

因为对于各大电子厂商来说,他们想要维持市场的竞争力,就必须使用先进的芯片工艺,特别是对于头部手机厂家来说,想要维持市场竞争力,他们每年都会推出新的旗舰机,而这些旗舰机所搭载的都是当前先进的芯片工艺。

而目前全球已经实现5纳米芯片的量产,未来几年3纳米甚至2纳米芯片都有可能量产。

在这种背景之下,即便我国生产出28纳米的光刻机了,但是跟国际顶 尖的芯片水平仍然有很大的差距,所以我国芯片还有很长的路要走。

但是我国能够从90纳米光刻机直接突破到28纳米,这是一个非常明显的进步,我相信按照目前我国对芯片的投入以及各大企业对芯片的重视程度,未来我国光刻机研究肯定会取得更大的进步。
(来源:腾讯网)
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